檢索結果：共6筆資料 檢索策略： "sputter".ekeyword (精準) and cadvisor.raw="郭俞麟"
個人化服務 ：
排序：
每頁筆數：
已勾選0筆資料
1
2
以RF濺鍍來成長TaNx薄膜並觀察N2/Ar流量比對TaNx薄膜之沈積速率、N/Ta原子比、電阻率及結晶結構之影響。實驗結果顯示TaNx薄膜的沈積速率會隨著N2/Ar流量比的增加而下降；TaNx薄膜…
3
由於鎂及其合金在所有結構用金屬材料中具有優異的物理及機械特性，如低密度、高比強度、高比剛性、高吸震性、高電磁屏障性、抗輻射能力強、易切削加工及易回收等一系列優點，在生活設備及國防軍事領域具有極其重要…
4
本研究利用磁控濺鍍以及陽極氧化法在單晶藍寶石基板上製作具有奈米孔洞陣列結構的氧化鋁薄膜(AAO)，並在其表面沉積金屬錫與一氧化錫來改變可見光的透射和反射行為，造成原本是無色透明的藍寶石試片顏色改變，…
5
本研究使用射頻磁控濺鍍設備(RF Magnetron Sputtering)，並分為純氬氣與通入6.2 sccm與12.5 sccm氧氣氣氛，搭配CeO2靶材以功率100 W沉積氧化鈰薄膜於矽晶片、…
6
摘要 本研究主要提出氧化釓摻雜氧化鈰(Gadolinia-doped Ceria, GDC)薄膜於固態氧化物燃料電池中固態電解質層應用的可行性評估。GDC薄膜係以射頻反應性濺鍍法(RF-Re…